“Dado que el desarrollo de semiconductores se ha convertido en un asunto de seguridad nacional, no subestimaría la ambición de China”, afirma Gary Ng, analista de Natixis.
El desarrollo por parte de China de su propia máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV) para fabricar semiconductores avanzados para inteligencia artificial y sistemas informáticos de alto rendimiento podría suponer un impulso “enorme” para el país en su rivalidad tecnológica con Estados Unidos, según analistas.
Científicos en un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen construyeron a principios de este año “lo que Washington ha intentado evitar durante años”: un prototipo de máquina de litografía EUV, según un informe de Reuters del jueves.
Fue construida por un equipo de exingenieros de la empresa holandesa ASML, el principal proveedor mundial de máquinas de fotolitografía que graban patrones de circuitos en obleas de silicio para crear chips. Replicaron la máquina EUV de ASML utilizando piezas de máquinas ASML más antiguas obtenidas en mercados secundarios, según el informe, que cita a dos personas con conocimiento del proyecto.
“Si tiene éxito, China aumentará enormemente su influencia geopolítica sobre Estados Unidos”, dijo Gary Ng, economista sénior para Asia-Pacífico en Natixis Corporate and Investment Bank. “La prioridad para dominar la tecnología EUV será su uso en defensa”.
El posible avance de China subraya cómo las máquinas EUV se encuentran en el centro de la guerra tecnológica entre Estados Unidos y China, y el dominio de esta tecnología demostraría que Beijing está más cerca de lograr su objetivo de autosuficiencia en semiconductores, años antes de lo que Occidente había previsto.
“Dado que el desarrollo de semiconductores se ha convertido en un asunto de seguridad nacional, no subestimaría la ambición de China y su enfoque integral para replicar las máquinas EUV”, dijo Ng.
