Según un informe, los equipos DUV —aunque no tan avanzados como los EUV— pueden adaptarse para fabricar chips lógicos de 7 nanómetros y memorias avanzadas para procesadores de IA.

Las plantas de semiconductores chinas han acumulado cientos de máquinas de litografía de inmersión valoradas en miles de millones de dólares en los últimos años, según exfuncionarios estadounidenses, quienes instaron a Washington y a sus aliados a detener futuras exportaciones.

Las fábricas de propiedad china habían adquirido unos 343 sistemas de litografía de inmersión de ultravioleta profundo (DUV) a principios de 2026, según un informe publicado a finales de septiembre por el Centre for Technology & Statecraft (CTS), un grupo de investigación con sede en Washington creado en agosto.

El estudio, elaborado conjuntamente por Nicholas Brown —exfuncionario estadounidense encargado del control de exportaciones— y Saif Khan —exasesor de política tecnológica de la Casa Blanca y del Departamento de Comercio—, aporta nuevos datos al debate en Washington sobre si los aliados occidentales deberían imponer un bloqueo total a los equipos DUV de inmersión destinados a China.

Al tener vetada la compra de los equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) más avanzados del fabricante neerlandés ASML, los fabricantes de chips chinos han dependido en gran medida de los sistemas DUV de inmersión —algunos de cuyos modelos siguen exentos de las prohibiciones de exportación occidentales— para producir semiconductores sofisticados.