La litografía avanzada sigue siendo un importante obstáculo para China, pero una nueva empresa fundada en febrero ofrece un nuevo optimismo.

AMIES Technology, un nuevo fabricante chino de equipos de litografía que presentó sus últimos productos para la fabricación de chips en un evento del sector en Shenzhen la semana pasada, ofrece un renovado optimismo en el esfuerzo del país por reducir su dependencia del gigante holandés ASML.

La empresa presentó una amplia gama de productos, incluyendo máquinas de litografía de semiconductores compuestos, sistemas de recocido láser, herramientas de inspección avanzadas y soluciones para el empaquetado y la unión de obleas, en la WeSemiBay Semiconductor Ecosystem Expo 2025, que contó con más de 600 expositores, como SiCarrier, socio de Huawei Technologies.

La litografía avanzada sigue siendo un obstáculo importante para las ambiciones de China en la fabricación de chips. El país aún se encuentra muy por detrás de los líderes mundiales en esta tecnología y tiene restricciones para adquirir los sistemas de ultravioleta profundo (DUV) y ultravioleta extremo (EUV) de ASML debido a los controles de exportación estadounidenses.

Fundada en febrero, AMIES es una escisión de la empresa de litografía líder en China, la estatal Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). Mientras SMEE se centra en el desarrollo de herramientas esenciales de front-end, AMIES aspira a comercializar equipos con mayor rapidez, según informes de medios chinos que citan a representantes de la empresa.

SMEE, sancionada por EE.UU., destaca en procesos de semiconductores de back-end, como el empaquetado, que a menudo requieren tecnología litográfica menos avanzada. Sin embargo, en la fabricación de obleas de front-end, aún intenta alcanzar a líderes occidentales como ASML.

Se cree que las herramientas litográficas de producción más fiables de la empresa china admiten procesos de nodos de alrededor de 90 nanómetros y superiores. A finales de 2023, su accionista, Zhangjiang Group, afirmó brevemente en redes sociales que SMEE había «desarrollado con éxito una máquina litográfica de 28 nm», pero posteriormente se retractó.