La firma Langdao Silex, con sede en Shanghái, exhibe un sistema de fuente de luz EUV de desarrollo propio, lo que supone un paso crucial en la estrategia de Beijing para lograr la autosuficiencia en el sector de los chips.

Una empresa emergente china ha presentado un prototipo de sistema de fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) —un componente a menudo descrito como el «corazón» de los sistemas de litografía avanzada—, lo que representa un paso inicial pero fundamental en el esfuerzo de Beijing por alcanzar la autosuficiencia en equipos para la fabricación de chips.

Durante la Feria Internacional de la Industria de China, celebrada en Shanghái, Langdao Silex exhibió su sistema de fuente de luz EUV de desarrollo propio. Según un representante de la empresa —citado el martes por el medio chino *Jiefang Daily*—, el 90% de los componentes de la máquina son de origen local, y la gran mayoría de las piezas clave han sido desarrolladas internamente.

El personal presente en el lugar describió el prototipo como un avance crucial para trasladar las fuentes de luz EUV de fabricación nacional desde el laboratorio hacia aplicaciones industriales; no obstante, la producción en masa aún se encuentra a «entre tres y cinco años» de distancia, según señala el informe.